南昌瀚宸新材料科技有限公司

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南昌瀚宸新材料科技有限公司是一家以研发、生产、销售各类镀膜材料的公司。我司主营产品有金属及合金靶材、陶瓷靶材、衬底基片、晶体材料、蒸发镀膜料、电子化学品、特种玻璃等。产品应用于航天航空、工业镀膜、电子工程、光学光电和通讯存储等领域。我司拥有完整、科学的质量管理体系，欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。

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南昌瀚宸新材料科技有限公司客服一： 2 8 2 2 4 8 1 2 5 6 客服二： 2 3 2 7 9 8 2 5 1 5 邮箱一： s a l e s @ h c m e m s . c o m 邮箱二： x w b @ h c m e m s . c o m 联系电话： 1 3 6 7 2 2 2 2 3 9 7 首页首页关于瀚宸关于瀚宸原料及耗材原料及耗材金属蒸镀颗粒 / 金属靶材化合物蒸镀颗粒 / 靶材基片衬底电子化学品 M E M S 微纳加工 M E M S 微纳加工抛光减薄打孔切割掺杂键合刻蚀镀膜光刻 M E M S 器件 M E M S 器件 M E M S 开关器件光波导芯片定制氮化硅薄膜窗格微流控器件 / 芯片合作伙伴合作伙伴新闻动态新闻动态公司新闻行业动态联系我们联系我们选择站点语言首页关于瀚宸原料及耗材金属蒸镀颗粒 / 金属靶材化合物蒸镀颗粒 / 靶材基片衬底电子化学品 M E M S 微纳加工 M E M S 器件合作伙伴新闻动态公司新闻行业动态联系我们 M E M S 微纳加工方案及代工抛光减薄打孔切割掺杂键合刻蚀镀膜光刻耗材及原料供应金属蒸镀颗粒 / 金属靶材化合物蒸镀颗粒 / 靶材基片衬底电子化学品 0 1 关于瀚宸新材专业、专注、担当、创新南昌瀚宸新材料科技有限公司，位于江西省南昌市国家高新开发区内，是一家以研发、生产、销售各类镀膜材料的公司。公司主营的产品有金属及合金靶材、陶瓷靶材、蒸发镀膜料、基片衬底、电子化学品，微纳加工等并积极从事下游膜技术的开发及应用。我司材料应用于航天航空、工业镀膜、电子工程、光学光电和通讯储存等领域，积累了良好的口碑和声誉。热诚欢迎广大客户来我司考察洽谈！ 2 0 1 6 年公司成立于 2 0 1 6 年 6 3 % 研发人员占比 1 2 0 + 公司产品种类 1 8 0 + 仪器设备 1 8 0 台套 1 2 0 0 ㎡实验室占地面积 1 2 0 0 ㎡了解更多原料及耗材应用于航天航空、工业镀膜、电子工程、光学光电和通讯储存等领域金属蒸镀颗粒 / 金属靶材高纯金属 / 贵金属 / 难溶合计靶材 / 金属形状加工化合物蒸镀颗粒 / 靶材化合物 / 氧化物靶材 / 化合物靶材基片衬底类硅基片 / 锗基片 / 蓝宝石基片 / 氮化镓基片电子化学品类刻蚀液类 / 光刻胶 / 显影液金属蒸镀颗粒品名分子式熔点 / ℃ 沸点 / ℃ 密度 / （ g / c m 3 ）纯度颗粒尺寸 / m m 铝颗粒 A l 6 6 0 2 4 6 7 2 . 7 0 4 N , 5 N 3 * 3 , 2 * 2 或定制钛颗粒 T i 1 6 6 0 3 2 8 7 4 . 5 4 3 N 4 N 3 * 3 , 5 * 2 或定制铬颗粒 C r 1 8 5 7 2 6 7 2 7 . 1 9 3 N 5 1 1 0 不规则颗粒钴颗粒 C o 1 4 9 5 2 8 7 0 8 . 9 3 N 5 3 * 3 ，不规则颗粒镍颗粒 N i 1 4 5 3 2 7 3 2 8 . 9 3 N 4 N 3 * 3 铜颗粒 C u 1 0 8 4 2 5 6 7 8 . 9 6 4 N 5 N 3 * 3 锌颗粒 Z n 4 1 9 9 0 7 7 . 1 3 4 N 3 8 不规则颗粒锗颗粒 G e 9 3 7 2 8 3 0 5 . 3 2 5 N 锭或不规则颗粒钼颗粒 M o 2 6 1 7 4 6 1 2 1 0 . 2 2 4 N 不规则颗粒铟颗粒 I n 1 5 6 2 0 7 3 7 . 3 1 5 N 0 . 3 0 . 5 , 0 . 6 0 . 8 1 3 锡颗粒 S n 2 3 2 2 2 7 0 7 . 3 1 4 N 2 3 ，不规则颗粒金颗粒 A u 1 0 6 4 2 8 0 7 1 9 . 3 2 4 N 2 * 2 , 3 * 3 或丝状银颗粒 A g 9 6 1 2 1 6 3 1 0 . 5 4 N 2 * 2 , 3 * 3 或丝状铂颗粒 P t 1 7 7 2 3 8 2 7 2 1 . 4 5 3 N 5 2 * 2 , 3 * 3 或丝状金属靶材品名分子式熔点 / ℃ 密度 / （ g / c m 3 ）纯度加工形状镁靶材 M g 6 4 9 1 . 7 3 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工铝靶材 A l 6 6 0 2 . 7 0 4 N , 5 N 圆片 / 方形特殊按图加工钛靶材 T i 1 6 6 0 4 . 5 4 3 N 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工钒靶材 V 1 9 0 2 6 . 1 1 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工铬靶材 C r 1 8 5 7 7 . 1 9 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工锰靶材 M n 1 2 4 4 7 . 4 3 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工铁靶材 F e 1 5 3 5 7 . 8 7 3 N 圆片 / 方形特殊按图加工钴靶材 C o 1 4 9 5 8 . 9 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工镍靶材 N i 1 4 5 3 8 . 9 3 N 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工铜靶材 C u 1 0 8 4 8 . 9 6 4 N 5 N 圆片 / 方形特殊按图加工锌靶材 Z n 4 1 9 7 . 1 3 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工锗靶材 G e 9 3 7 5 . 3 2 5 N 圆片 / 方形特殊按图加工钇靶材 Y 1 5 2 6 4 . 4 7 3 N 圆片 / 方形特殊按图加工锆靶材 Z r 1 8 5 2 6 . 5 1 2 N 7 / 3 N 5 ( 结晶 ) 圆片 / 方形特殊按图加工铌靶材 N b 2 4 6 8 8 . 5 7 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工钼靶材 M o 2 6 1 7 1 0 . 2 2 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工铟靶材 I n 1 5 6 7 . 3 1 5 N 圆片 / 方形特殊按图加工锡靶材 S n 2 3 2 7 . 3 1 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工锑靶材 S b 6 3 0 6 . 6 8 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工铪靶材 H f 2 2 2 7 1 3 . 3 1 2 N 7 / 3 N 5 ( 结晶）圆片 / 方形特殊按图加工钽靶材 T a 2 9 9 6 1 6 . 6 5 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工钨靶材 W 3 4 0 7 1 9 . 3 5 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工铋靶材 B i 2 7 1 9 . 7 5 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工金靶材 A u 1 0 6 4 1 9 . 3 2 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工银靶材 A g 9 6 1 1 0 . 5 4 N 圆片 / 方形特殊按图加工铂靶材 P t 1 7 7 2 2 1 . 4 5 3 N 5 圆片 / 方形特殊按图加工化合物蒸镀颗粒品名分子式颜色蒸发度 / ℃ 密度 / （ g / c m 3 ）纯度折射率 5 5 0 n m 透光范围 n m 蒸发源应用膜系颗粒尺寸 / m m 硫化锌 Z n S 淡黄色 1 1 0 0 4 . 1 9 9 . 9 9 2 . 3 2 . 4 3 5 0 1 4 5 0 E 红外滤光 1 3 ， 3 1 0 ，硒化锌 Z n S e 橘黄色透明 1 5 2 0 5 . 2 7 9 9 . 9 9 2 . 5 8 5 0 0 2 2 0 0 E ， B ( T a ， M o ) 红外偏振不规则块状一氧化硅 S i O 黑色 1 7 0 0 2 . 1 3 9 9 . 9 9 % 1 . 5 5 8 0 0 8 0 0 0 B ( T a M o W ) 增透保护 1 1 0 ， 1 0 2 0 二氧化硅 S i O 2 无色透明 1 7 0 0 2 . 2 9 9 . 9 9 % 1 . 4 6 2 0 0 2 5 0 0 E 增透多层 1 5 二氧化钛 T i O 2 黑色 / 白色 2 2 0 0 4 . 2 9 9 9 . 9 9 % 2 . 3 2 . 5 3 5 0 1 4 0 0 0 E 增透多层 1 5 五氧化三钛 T i 3 O 5 茶黑色 1 5 0 0 2 2 0 0 4 . 8 9 9 9 . 9 9 % 2 . 0 5 4 0 0 1 2 0 0 0 E , B ( T a ) 增透多层 1 5 二氧化锆 Z r O 2 黑 / 白色 2 7 1 5 5 . 8 9 9 9 . 9 9 % 1 . 9 7 2 . 0 5 2 5 0 9 0 0 0 E 增透多层 1 5 三氧化二铝 A l 2 O 3 白色 2 0 0 0 2 2 0 0 3 . 9 9 9 . 9 9 % 1 . 6 3 2 0 0 5 0 0 0 E 增透多层 1 3 二氟化镁 M g F 2 白色 1 3 0 0 1 6 0 0 3 . 1 4 9 9 . 9 9 % 1 . 3 8 2 0 0 7 0 0 0 E B 增透多层 1 3 五氧化二铌 N b 2 O 5 黑色 1 7 0 0 4 . 4 7 9 9 . 9 9 % 2 . 3 3 5 0 9 0 0 0 E 增透多层 1 4 五氧化二钽 T a 2 O 5 黑色 1 9 5 0 8 . 2 9 9 . 9 9 % 2 . 1 4 0 0 7 0 0 0 E 增透多层 1 3 2 4 三氧化二钇 Y 2 O 3 白色 2 7 0 0 5 . 0 1 9 9 . 9 9 % 1 . 8 7 4 0 0 8 0 0 0 E 多层 1 3 2 4 钛酸镧 L a 2 T i 2 O 7 黑色 1 9 0 0 / 9 9 . 9 9 % 1 . 9 5 2 . 1 3 6 0 7 0 0 0 E 增透多层 1 4 三氧化二铬 C r 2 O 3 绿色 2 4 5 0 5 . 2 1 9 9 . 9 9 % 2 . 4 1 2 0 0 1 0 0 0 E 导电膜 1 4 一氧化钛 T i O 灰色 1 8 0 0 4 . 8 9 9 9 . 9 9 % 2 . 3 2 . 5 4 0 0 1 2 0 0 0 E B 增透多层 1 5 氧化铟锡 I T O 灰黑 1 9 0 0 / 9 9 . 9 9 % 2 . 0 4 0 0 1 0 0 0 E 导电膜圆柱 / 颗粒化合物靶材合金系列 A l C u , A l C r , A l M g , A l S i , A l S i C u , A l A g , A l V , C a N i C r F e , C a N i C r F e M o M n , C e G d , C e S m , C r S i , C o C r , C o C r M o , C o F e , C o F e B , C o N i , C o N i C r , C o P t , C o N b Z r , C o T a Z r , C o Z r , C r V , C r B , C r S i , C r C u , C u C o , C u G a , C u I n , C u N i , C o N i P t , C u Z r , D y F e , D y F e C o , F e B , F e C , F e M n , G d F e , G d F e C o , H f F e , I r M n , I r R e , I n S n , M o S i , N i A l , N i C r , N i C r S i , N d D y F e C o , N i F e , N i M n , N i N b T i , N i T i , N i V , S m C o , A g C u , A g S n , T a A l , T b D y F e , T b F e , T b F e C o , T b G d F e C o , T i A l , T i N i , T i C r , W R e , W T i , W C u , Z r A l , Z r C u , Z r F e , Z r N b , Z r N i , Z r T i , Z r Y , Z n A l , Z n M g 采用高纯单质金属，熔炼或粉末冶金工艺，后经机械加工处理成型，表面车加工磨光公差： + / 0 . 2 m m 规格：圆片 / 方型尺寸根据客户要求定制硼化物靶材 C r 2 B , C r B , C r B 2 , C r 5 B 3 , F e B , H f B 2 , L a B 6 , M o 2 B , M o 2 B 5 , N b B , N b B 2 , T a B , T a B 2 , T i B 2 , W 2 B , W B , V B , V B 2 , Z r B 2 采用高纯粉末，粉末热压工艺，后经机械加工处理成型提供靶材绑定服务公差： + / 0 . 2 m m 规格：圆片 / 方型尺寸根据客户要求定制碳化物靶材 B 4 C , C r 3 C 2 , H f C , M o 2 C , N b C , S i C , T a C , T i C , W C , W 2 C , V C , Z r C 氮化物靶材 A l N , B N , G a N , H f N , N b N , S i 3 N 4 , T a N , T i N , V N , Z r N 氧化物靶材 A l 2 O 3 , S b 2 O 3 , A T O , B a T i O 3 , B i 2 O 3 , C e O 2 , C u O , C r 2 O 3 , D y 2 O 3 , E r 2 O 3 , E u 2 O 3 , G d 2 O 3 , G a 2 O 3 , G e O 2 , H f O 2 , H o 2 O 3 , I n 2 O 3 , I T O , F e 2 O 3 , F e 3 O 4 , L a 2 O 3 , P b T i O 3 , P b Z r O 3 , L i N b O 3 , L u 3 F e 5 O 1 2 , L u 2 O 3 , M g O , M o O 3 , N d 2 O 3 , P r 6 O 1 1 , P r ( T i O 2 ) 2 , P r 2 O 3 , S m 2 O 3 , S c 2 O 3 , S i O 2 , S i O , S r T i O 3 , S r Z r O 3 , T a 2 O 5 , T b 4 O 7 , T e O 2 , T h O 2 , T m 2 O 3 , T i O 2 , T i O , T i 3 O 5 , T i 2 O 3 , S n O 2 , S n O W O 3 , V 2 O 5 , Y A G , Y 3 A l 5 O 1 2 , Y b 2 O 3 , Y 2 O 3 , Z n O 等硅基片 S i 晶体结构面心立方熔点 1 4 2 0 ° 密度 2 . 4 g / c m 3 晶型 N / P / 本征晶向， , 电阻率 0 . 0 0 1 0 . 1 Ω . c m ， 0 . 1 1 Ω . c m ， 1 1 0 Ω . c m ， 1 0 5 0 Ω . c m ， 1 0 0 1 0 0 0 Ω . c m ， > 1 0 0 0 Ω . c m ， > 1 0 0 0 0 Ω . c m 氧含量 ≤ （ 1 1 . 8 ） * 1 0 1 8 c m 3 碳含量 ≤ 5 * 1 0 1 6 尺寸直径： 1 英寸， 2 英寸， 3 英寸， 4 英寸， 6 英寸等厚度： 0 . 3 0 . 5 m m 1 m m 可按照客户需求定制特殊尺寸基片抛光单面或双面抛光包装 1 盒 2 5 片，特殊尺寸 1 0 0 级洁净袋锗基片 G e 9 9 . 9 9 9 % 生长方法提拉法晶体结构立方密度 5 . 3 2 3 g / c m 3 熔点 9 3 7 . 4 ° 掺杂物质不掺杂掺 S b 掺 I n 或 G a 类型 N / P 电阻率 0 . 0 5 Ω . c m 0 . 0 5 0 . 1 Ω . c m ＞ 3 5 Ω . c m 尺寸直径： 2 英寸， 3 英寸， 4 英寸厚度： 0 . 5 m m ， 1 m m ， 2 m m 晶相 , 包装 1 0 0 级洁净袋蓝宝石基片晶体结构六方晶系熔点 2 0 4 0 ° 密度 3 . 9 8 g / c m 3 晶型 A R M C 晶向， , 热导率 0 . 0 5 5 （ 2 3 ℃ ） 0 . 0 4 0 （ 7 7 ℃ ）热膨胀系数 7 . 5 * 1 0 6 介电常数 9 . 4 @ 3 0 0 K a t A a x i s ~ 1 1 . 5 8 @ 3 0 0 K a t C a x i s 尺寸 1 0 × 3 , 1 0 × 5 ， 1 0 × 1 0 , 1 5 × 1 5 ， 2 0 × 1 5 ， 2 0 × 2 0 ，可按照客户需求定制特殊尺寸基片抛光单面或双面抛光表面粗糙度 R a 包装 P a c k a g e d i n a c l a s s 1 0 0 c l e a n r o o m e n v i r o n m e n t , i n s i n g l e w a f e r c o n t a i n e r s , u n d e r a n i t r o g e n a t m o s p h e r e . 氮化镓基片晶体取向 C a x i s ( 0 0 0 1 ) ± 0 . 5 ° 导电类型 N 型电阻率位错密度 L e s s t h a n 5 x 1 0 6 c m 2 有效面积大于 9 0 % 尺寸 1 0 × 1 0 . 5 ， 1 4 * 1 5 ，厚度： 3 0 0 , 3 5 0 , 4 0 0 u m 可按照客户需求定制特殊尺寸基片抛光 F r o n t S u r f a c e : R a B a c k S u r f a c e : F i n e g r o u n d 包装 P a c k a g e d i n a c l a s s 1 0 0 c l e a n r o o m e n v i r o n m e n t , i n s i n g l e w a f e r c o n t a i n e r s , u n d e r a n i t r o g e n a t m o s p h e r e . 刻蚀液类品牌产地品名型号应用 T R A N S E N E 美国镍刻蚀液 T F B 标准镍蚀刻液用于蒸镀镍薄膜 T F G 高纯蚀刻液用于电沉积镍薄膜，与铜、砷化镓及其他三五族化合物相适应 T Y P E 1 高纯蚀刻液用于镍、镍铁合金及某些不锈钢金刻蚀液 T F A 高纯度、低钠、 0 . 2 u m 过滤的蚀刻液可用于半导体和微电子领域，蚀刻金和镍。 T F A C 选择性的蚀刻液可用于砷化镓及其他三五族金属间化合物和半导体 G E 8 1 4 8 选择性的蚀刻液可在镍膜使用，较快的蚀刻速率。可消除在种子层快速的侧向蚀刻。 G E 8 1 1 0 控制蚀刻速度，可在镍膜使用。 G E 8 1 1 1 低 p H 值，慢蚀刻速率，与镍相适应。金银清洗液使用蚀刻液前预清洗镍铬刻蚀液 T F N 最小化的底切、优异的精细线条控制，一致化操作银刻蚀液 T F S 选择性的银蚀刻液，与负性及正性光刻胶相适合，用于薄膜微电子开发电路元件铬刻蚀液 1 0 2 0 蚀刻速率快、最小化底切，适合于高精度光刻掩膜版蚀刻 1 0 2 0 A C 蚀刻速率慢以消除底切，具有广泛的相适性 C R E 4 7 3 与铜、镍、金以及钼薄膜相适应 C E 5 M 理想的高精度光刻掩膜版蚀刻液 T F E 用于铬硅薄膜，与铜薄膜相适应 C E 8 0 0 2 A 铬蚀刻液 C E 8 0 0 2 A 是铈铵 / 醋酸基蚀刻液，用于铬基板蚀刻，蚀刻速度慢而没有底切。通常室温下蚀刻时间 2 0 6 0 秒。 C E 8 0 0 1 N 铬蚀刻液 C E 8 0 0 1 N 是硝酸铈铵 / 硝酸基蚀刻液，用于所有类型的铬基板蚀刻，蚀刻速度由基板中铬密度和工艺条件决定。通常室温下蚀刻时间 1 5 5 5 秒。这种蚀刻液也有添加了表面活性剂的铬蚀刻液 C E 8 0 0 1 N S 供应钌蚀刻液 R U 4 4 钌蚀刻液 R U 4 4 是硝酸铈铵 / 硝酸基蚀刻液，用于所有类型的蒸镀钌薄膜的蚀刻。蚀刻速度由基板中钌密度和工艺条件决定。通常室温下蚀刻时间 1 5 5 5 秒。这种蚀刻液也有添加了表面活性剂的钌蚀刻液 R U 4 4 S 供应。钌蚀刻液 R U 4 4 适合于亚微米光刻应用。如果需要快速蚀刻，铬陶瓷蚀刻液 T F E 可以使用铝刻蚀液 T Y P E A 标准铝蚀刻液用于硅器件和其他微电子应用 T Y P E D 标准铝蚀刻液用于砷化镓、砷和磷化镓器件以及镍铬电阻上铝金属化膜的制作 T Y P E F 铝蚀刻液 F 型是一种稳定的蚀刻液，可用于在硅器件上及集成电路应用中蚀刻铝或铝硅金属化膜。铝蚀刻液 F 型具有独特的性质可以很容易地克服许多在铝蚀刻时遇到的问题如金属残留等印刷电路板铜蚀刻液 T Y P E 1 0 0 用于浸没式蚀刻 T Y P E 2 0 0 用于喷雾蚀刻技术 A P S 1 0 0 用于薄膜和印刷电路板 T Y P E 4 9 1 铜蚀刻液 4 9 1 是一种高纯的、可控的蚀刻液，用于特殊微电子蚀刻如砷化镓或铜。铜蚀刻液 B T P 可进行快速蚀刻，同时保持了镍的相适性 B T P 钯蚀刻液 T F P 钯蚀刻液 T F P 设计用于溅射、蒸镀和非电镀沉积薄膜蚀刻高分辨图案轮廓，这些薄膜普遍用于硅片的镍和金的金属化薄膜的阻挡层 E C 钯蚀刻液 E C 主要用于钯基板的高精细电化学蚀刻，合金如钯银也可很容易蚀刻。电化学蚀刻可在基板材料上精细、准确地蚀刻钛蚀刻液 T F T 设计用于蚀刻通常用做粘接和阻挡层的蒸镀膜，优异的分辨率、光刻胶相适性以及最小化的底切 T F T N 主要用于蚀刻玻璃或二氧化硅基板上沉积的钛薄膜，不含氢氟酸钛钨蚀刻液 T i W 3 0 钛钨蚀刻液 T i W 3 0 适用于微电子制作中钛钨粘接层的选择性蚀刻液，可有效地蚀刻沉积在氮化硅或二氧化硅表面的钛钨薄膜，具有优异的蚀刻精度和蚀刻速度控制，与正负性光刻胶广泛的适应性氧化铁掩膜版蚀刻液 M E 1 0 固体器件制作非常依靠使用光刻技术制备图案 . 标准蚀刻液 M E 3 0 固体器件制作非常依靠使用光刻技术制备图案 . 节约成本的蚀刻液钼蚀刻液 T F M 用于半导体和微电子技术的钼薄膜金属化层的选择性蚀刻液光刻胶及显影液品名型号规格包装规格单位备注光刻胶 1 0 1 0 2 5 0 m l / 瓶 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶 1 0 4 0 1 0 5 0 1 0 6 0 1 0 7 0 M i c r o c h e m 光刻胶 S U 8 5 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶 4 L / 瓶瓶现货 S U 8 5 0 S U 8 1 0 0 S U 8 2 0 0 0 . 5 S U 8 2 0 0 2 S U 8 2 0 0 5 S U 8 2 0 0 7 S U 8 2 0 1 0 S U 8 2 0 1 5 S U 8 2 0 2 5 S U 8 2 0 3 5 S U 8 2 0 5 0 S U 8 2 0 7 5 S U 8 2 1 0 0 S U 8 2 1 5 0 S U 8 3 0 1 0 S U 8 3 0 2 5 S U 8 3 0 3 5 P M G I S F 3 5 0 0 m l / 瓶瓶 P M G I S F 6 4 9 5 P M M A A 2 5 0 0 m l / 瓶瓶 4 9 5 P M M A A 4 5 0 0 m l / 瓶瓶 9 5 0 P M M A A 2 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶 9 5 0 P M M A A 4 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶 4 L / 瓶瓶 9 5 0 P M M A A 5 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶 9 5 0 P M M A A 6 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶 K M P R 1 0 1 0 5 0 0 m l / 瓶瓶 K M P R 1 0 2 5 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶 K M P R 1 0 5 0 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶稀释剂 S U 8 2 0 0 0 T h i n n e r 1 L / 瓶 1 加仑 / 瓶瓶增粘剂 O m n i c a o t 5 0 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶瓶显影液 M I B K / I P A 1 : 3 4 L / 瓶瓶显影液 S U 8 D e v 1 L / 瓶瓶去胶液 r e m o v e r P G 4 L / 瓶瓶 D O W / S h i p l e y 光刻胶 S P R 2 2 0 3 加仑 / 瓶瓶 S P R 2 2 0 7 1 加仑 / 瓶瓶 1 L / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 S P R 9 5 5 0 . 7 1 加仑 / 瓶瓶 1 L / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 S 1 8 0 5 G 2 1 加仑 / 瓶瓶 1 L / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 S 1 8 1 3 1 加仑 / 瓶瓶 1 L / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 S 1 8 1 8 G 1 加仑 / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 L C 1 0 0 A 2 0 C P 加仑 / 瓶瓶 m c p r 2 7 0 0 5 0 c p 加仑 / 瓶瓶 S 9 9 2 0 G 加仑 / 瓶瓶显影液 M F 3 1 9 5 L / 瓶瓶显影液 M F C D 2 6 2 0 L / 瓶瓶去胶液 M i c r o p o s i t R e m o v e r 1 1 6 5 加仑 / 瓶瓶稀释剂 T H I N N E R T Y P E 1 加仑 / 瓶瓶增粘剂 P r i m e r 5 0 0 m l / 瓶瓶 A Z 光刻胶 A Z 5 2 1 4 1 加仑 / 瓶瓶现货 1 L / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 A Z 6 1 3 0 1 加仑 / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 A Z 4 6 2 0 1 加仑 / 瓶加仑现货 1 L / 瓶瓶 7 5 0 m l / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 A Z 1 5 0 0 加仑 / 瓶瓶 A Z 6 1 1 2 加仑 / 瓶瓶 A Z 4 5 6 2 5 L / 瓶瓶 A Z 5 0 X T 夸脱 / 瓶瓶 A Z M I R 7 0 1 1 加仑 / 瓶瓶 A Z M I R 7 0 3 1 加仑 / 瓶瓶 A Z n L O F 2 0 7 0 加仑 / 瓶 m l 显影液 A Z 3 0 0 M I F D e v e l o p e r 2 0 L / 桶桶显影液 A Z 4 0 0 K 加仑 / 瓶瓶去胶液 A Z 4 0 0 T 2 0 L / 桶桶 F u t u r r e x 光刻胶 S O G I C 1 2 0 0 2 5 0 m l / 瓶瓶 N R 7 2 5 0 P 2 5 0 m l / 瓶瓶 N R 7 2 5 0 P 夸脱 / 瓶瓶 N R 7 6 i 1 5 0 0 ( P Y N R 7 7 1 5 0 0 P Y ) 2 5 0 m l / 瓶瓶 N R 2 6 2 5 0 0 0 P ( N R 2 1 2 0 0 0 P ) 2 5 0 m l / 瓶瓶 N R 2 1 2 0 0 0 0 P 4 L / 瓶瓶 N R 7 1 5 0 0 P Y 2 5 0 m l / 瓶 1 L / 瓶瓶瓶 N R 9 1 5 0 0 P Y 夸脱 / 瓶瓶 N R 9 1 5 0 0 P Y 3 2 盎司 / 瓶 ( 美制 = 2 9 . 7 m l ) 瓶 N R 9 3 0 0 0 P Y 4 L / 瓶瓶 N R 9 3 0 0 0 P 3 2 盎司 / 瓶 ( 美制 = 2 9 . 7 m l ) 瓶 N R 9 6 0 0 0 P 2 5 0 m l / 瓶瓶 N R 9 8 0 0 0 5 0 0 m l / 瓶瓶 N R 9 8 0 0 0 1 L / 瓶瓶 P R 1 1 0 0 0 A 1 2 5 0 m l / 瓶瓶显影液 R e s i s t D e v e l o p e r R D 6 4 L / 瓶瓶去胶液 R e s i s t R e m o v e r R R 4 1 4 L / 瓶瓶光刻胶 D u r i m e d e 1 1 5 A 2 5 0 g / 瓶瓶 D u r i m e d e 1 1 6 A 2 5 0 g / 瓶瓶 F B 5 4 1 0 2 5 0 m l / 瓶瓶 P I 7 5 0 5 2 5 0 m l / 瓶瓶 P I 7 5 1 0 2 5 0 m l / 瓶瓶 L T C 9 5 1 0 2 5 0 m l / 瓶瓶显影液 H T R D 2 4 L / 瓶瓶漂洗液 R E R 6 0 0 4 L / 瓶瓶 M i c o r e s i s t 光刻胶 O r m o C o m p 1 0 0 g / 瓶瓶 M I N S 3 0 1 R M 2 0 0 g / 瓶瓶 m a N 4 0 5 2 5 0 m l / 瓶瓶 m a N 4 4 0 2 5 0 m l / 瓶瓶 m a D 3 3 2 / S 2 . 5 L / 瓶瓶显影液 m a D 5 2 5 2 . 5 L / 瓶瓶显影液 m a D 5 2 5 5 L / 瓶瓶去胶液 m r R e m 6 6 0 2 . 5 L / 瓶瓶光刻胶 B C B 3 0 2 2 3 5 0 . 8 k g / 瓶瓶光刻胶 B C B 3 0 2 2 4 6 0 . 8 k g / 瓶瓶增粘剂 A P 3 0 0 0 3 . 4 8 k g / 瓶瓶增粘剂 A P 8 0 0 0 3 . 4 8 k g / 瓶瓶光刻胶 T D M R A R 8 0 1 加仑 / 瓶瓶光刻胶 K X N 5 7 3 5 L 0 1 加仑 / 瓶瓶 5 0 0 m l / 瓶瓶 2 5 0 m l / 瓶瓶 1 2 5 m l / 瓶瓶 6 0 m l / 瓶瓶 4 0 m l / 瓶瓶光刻胶 A P P 3 2 5 0 2 5 0 m l / 瓶瓶 A P 3 0 0 2 6 1 L / 瓶瓶光刻胶 F O X 1 6 1 2 5 m l / 瓶瓶负性电子束光刻胶 X R 1 5 4 1 0 0 2 1 2 5 m l / 瓶瓶负性电子束光刻胶 X R 1 5 4 1 0 0 4 1 2 5 m l / 瓶瓶负性电子束光刻胶 X R 1 5 4 1 0 0 6 1 2 5 m l / 瓶瓶正性电子束光刻胶 R E 3 0 0 . 2 0 . 5 1 0 0 g / 瓶瓶正性电子束光刻胶 R E 3 0 0 . 7 . 4 1 0 0 g / 瓶瓶正性电子束光刻胶 R E 3 0 0 . 7 . 5 1 0 0 g / 瓶瓶正性电子束光刻胶 R E 3 0 0 . 4 0 . 5 1 0 0 m l / 瓶瓶 R E 3 0 0 . 9 5 . 3 1 0 0 m l / 瓶瓶 R E 3 0 0 . 9 5 . 5 1 0 0 m l / 瓶瓶正性电子束光刻胶 P M M A 9 5 0 K 1 0 0 g / 瓶瓶正性电子束光刻胶 P M M A 7 0 0 K 1 0 0 g / 瓶瓶电子束光刻胶 Z E P 5 2 0 （ R D Z ） 1 0 0 m l / 瓶瓶 Z E P 5 2 0 A （ R D Z ）夸脱 / 瓶瓶 1 0 m l / 瓶瓶 3 0 m l / 瓶瓶 5 0 m l / 瓶瓶 1 0 0 m l / 瓶瓶显影液 Z E D N 5 0 （ Z D ）加仑 / 瓶瓶去胶液 Z D M A C ( Z C ) 加仑 / 瓶瓶显影液 T M A H 2 5 % 4 L / 瓶瓶稀释剂 P G M E A 4 L / 瓶瓶去胶液 N M P 4 L / 瓶瓶增粘剂 H M D S 5 0 0 m l / 瓶瓶硅胶 P D M S 1 . 1 k g 套 M E M S 微纳加工我司可根据客户要求定制微米及纳米掩模板及压印模板，基底可为硅基金属基及 P D M S 软模板抛光减薄打孔切割掺杂键合刻蚀镀膜光刻了解更多查看详情 M E M S 器件微纳模板加工， P D M S ， P M M A ， S I ，特别推荐耐用的金属模板 M E M S 开关器件光波导芯片定制氮化硅薄膜窗格微流控器件 / 芯片了解更多查看详情 M E M S 微纳加工 M E M S 器件合作伙伴新闻动态更多新闻 2 0 2 4 0 3 2 8 热烈庆祝南昌瀚宸新材料科技有限公司官网搭建成功！南昌瀚宸新材料科技有限公司，位于江西省南昌市国家高新开发区内，是一家以研发、生产、销售各类镀膜材料的公司。公司主营的产品有金属及合金靶材、陶瓷靶材、蒸发镀膜料、基片衬底、电子化学品，微纳加工等并积极从事下游膜技术的开发及应用。 2 0 2 4 0 3 2 8 热烈庆祝南昌瀚宸新材料科技有限公司官网搭建成功！南昌瀚宸新材料科技有限公司，位于江西省南昌市国家高新开发区内，是一家以研发、生产、销售各类镀膜材料的公司。公司主营的产品有金属及合金靶材、陶瓷靶材、蒸发镀膜料、基片衬底、电子化学品，微纳加工等并积极从事下游膜技术的开发及应用。 2 0 2 4 0 3 2 8 热烈庆祝南昌瀚宸新材料科技有限公司官网搭建成功！南昌瀚宸新材料科技有限公司，位于江西省南昌市国家高新开发区内，是一家以研发、生产、销售各类镀膜材料的公司。公司主营的产品有金属及合金靶材、陶瓷靶材、蒸发镀膜料、基片衬底、电子化学品，微纳加工等并积极从事下游膜技术的开发及应用。关于瀚宸原料及耗材金属蒸镀颗粒 / 金属靶材化合物蒸镀颗粒 / 靶材基片衬底电子化学品 M E M S 微纳加工 M E M S 器件合作伙伴新闻动态公司新闻行业动态联系我们扫一扫添加客服版权所有 @ 2 0 2 4 南昌瀚宸新材料科技有限公司网站备案号：赣 I C P 备 2 0 2 4 0 2 9 8 0 0 号

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